Avec sa source Bernas-Nier, IRMA a la possibilité de fournir des faisceaux de 65 éléments chimiques différents, avec des énergies allant de 5 à 590 keV. Avec des flux pouvant dépasser les 1E13 at/(s*cm2), le large choix d’éléments chimique permet d’envisager divers travaux tels que le dopage de semi-conducteurs, l’implantation de terres-rares dans des cellules solaires, la création de précipités, la création de défauts ou l’incorporation de gaz. Son couplage avec l’accélérateur d’ions ARAMIS permet l’analyse par RBS/C in situ des modifications induites dans le matériau par l’implantation ionique. Son couplage avec ARAMIS et le MET permet des expériences de co-irradiations et observations à l’échelle nanométrique uniques au monde.
Programme scientifique | Plateformes IN2P3 en opération (hors programme de recherche) (MDIS) |
Catégories | Irradiation Faisceaux de protons Accélérateur Implantation ionique Caractérisations in situ |
Référence plateforme | SCALP (IN2P3-30-PF-010-1001) |
Ouvert aux académiques | Oui |
Ouvert aux industriels | Oui |
Mots-clés | Implantation Irradiation Ion IBA Analyse par faisceaux d’ions in situ |
Contact | Aucun |